在封裝行業(yè)中，等離子清洗是一種先進的清洗技術(shù)，它可以通過改性表面，增強粘合、去除污染物，增強表面附著力、增強產(chǎn)品的質(zhì)量、提高良率、降低成本和提高生產(chǎn)效率等方面，為封裝過程提供更好的環(huán)境和條件。

真空等離子清洗機的原理：氣體在一定條件下（如射頻、微波、直流輝光放電等）電離形成活性等離子態(tài)，利用等離子中的活性粒子與物體表面污物進行化學(xué)反應(yīng)，或利用等離子中的高能粒子轟擊物體表面污物形成可揮發(fā)性的污物隨真空泵油走，達到清洗的目的。

①改性表面

Plasma真空等離子表面處理可以有效地改性封裝材料的表面，使其表面能得到提高，從而增強材料的親水性，有利于后續(xù)封裝過程的進行。

②增強粘合

Plasma真空等離子表面處理可以通過表面改性來增強封裝材料之間的粘合性能。在封裝過程中，膠粘劑的使用是必不可少的，而等離子清洗可以有效地活化材料表面，提高膠粘劑的潤濕性和粘附力，從而增強封裝材料的粘合效果，提高產(chǎn)品的可靠性和穩(wěn)定性。

③去除污染物

在封裝過程中，硅芯片表面的氧化物、金屬雜質(zhì)等污染物會對產(chǎn)品的質(zhì)量造成嚴重的影響。而Plasma真空等離子表面處理可以通過高速粒子束流和活性粒子的作用，去除硅芯片表面的氧化物和金屬雜質(zhì)，從而保證產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性。

④提高生產(chǎn)效率

Plasma真空等離子清洗可以實現(xiàn)連續(xù)化、自動化的生產(chǎn)過程，減少了生產(chǎn)線上的人工干預(yù)，節(jié)省了大量時間成本和人力成本。同時，清洗過程對材料表面的改性和清潔作用也可以提高后續(xù)封裝操作的效率，進一步提高了生產(chǎn)效率。